RESIST MATERIAL AND PROCESS FOR USE.

摘要

Une composition spécifique permet d'obtenir une résolution et une sensibilité excellentes dans la configuration de matériaux de réserve utilisés dans la fabrication de masques et de dispositifs. Cette composition comprend en particulier des polymères ayant des fractions dépendantes et récurrentes d'ester d'acide alpha-alcoxyalkyle carboxylique labiles à l'acide en présence d'un générateur d'acide activé par la radiation actinique telle que les radiations utraviolettes visibles, ultraviolettes lointaines, à faisceau d'électrons et à rayons X.