发明名称 RESIST MATERIAL FOR USE IN THICK FILM RESISTS.
摘要 On obtient une résolution et une sensibilité excellentes dans la configuration de réserves utilisées dans la fabrication de dispositifs et de masques, à l'aide d'une composition spécifique. Cette composition met notamment en oeuvre des polymères présentant des fractions d'esters alpha-alkoxyalkyle d'acide carboxylique et/ou d'éther hydroxyaromatique labiles d'acides pendants récurrents, en présence d'une substance constituant un générateur d'acide lors d'une exposition à un rayonnement actinique.
申请公布号 EP0524250(A1) 申请公布日期 1993.01.27
申请号 EP19910908013 申请日期 1991.02.25
申请人 E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 发明人 BAUER, RICHARD, DOUGLAS;CHEN, GWENDYLINE, YUAN, YU;HERTLER, WALTER, RAYMOND;WHELAND, ROBERT, CLAYTON
分类号 C08L33/04;G03F7/004;G03F7/023;G03F7/029;G03F7/039;H05K3/00 主分类号 C08L33/04
代理机构 代理人
主权项
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