发明名称 |
HEAT-RESISTANT PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND FORMATION OF INTERLAYER INSULATING FILM |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH0517686(A) |
申请公布日期 |
1993.01.26 |
申请号 |
JP19910170295 |
申请日期 |
1991.07.11 |
申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
FUKUYAMA SHUNICHI;KOBAYASHI TOMOKO |
分类号 |
C08L83/04;H01L21/283;H01L21/312;H01L21/768;H01L23/522 |
主分类号 |
C08L83/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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