NOVOLAK RESINS OF LOWERED HYDROXYL CONTENT AND HIGH CONTRAST HIGH THERMAL STABILITY POSITIVE PHOTORESISTS PREPARED THEREFROM,申请号US19900475402-传众专利搜索

发明名称	NOVOLAK RESINS OF LOWERED HYDROXYL CONTENT AND HIGH CONTRAST HIGH THERMAL STABILITY POSITIVE PHOTORESISTS PREPARED THEREFROM
摘要
申请公布号	US5182184(A)	申请公布日期	1993.01.26
申请号	US19900475402	申请日期	1990.02.05
申请人	MORTON INTERNATIONAL, INC.	发明人	LAZARUS, RICHARD M.;KAUTZ, RANDALL;DIXIT, SUNIT S.
分类号	C08G8/04;C08G8/28;G03C1/00;G03F7/023;H01L21/027;H01L21/30	主分类号	C08G8/04
代理机构		代理人
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