STAIRCASE SIDEWALL SPACER FOR IMPROVED SOURCE/DRAIN ARCHITECTURE.

摘要

On réalise une intercalation en forme d'escalier sur une paroi latérale de circuit intégré en corrodant de manière sélective une couche de nitrure conforme recouvrant une couche d'oxyde conforme puis en corrodant la couche d'oxyde. Ladite intercalation est utilisée pour aligner les régions de source et de drain lors de l'implantation. L'étendue des régions n-/n+ et/ou p-/p+ implantées dans le substrat peut être contrôlée avec précision en raison des tolérances dimensionnelles étroites obtenues par l'empreinte de l'intercalation. On peut ensuite utiliser les profilés de source et de drain, avec du polysilicium élevé et du polysilicium élevé subissant une salification postérieure.