| 发明名称 | 嘧啶或三嗪类衍生物、它们的制备方法和应用它们作为除草剂 | ||
| 摘要 | 本发明公开了式(I)所示的嘧啶或三嗪类化合物、制备它们的方法以及含有它们作为有效成分的除草剂，式(I)中R<SUP>1</SUP>、R<SUP>2</SUP>、R<SUP>3</SUP>、R<SUP>4</SUP>、R<SUP>5</SUP>、R<SUP>6</SUP>，X次及Z的定义与说明书中所述的相同。 | ||
| 申请公布号 | CN1067651A | 申请公布日期 | 1993.01.06 |
| 申请号 | CN92104403.8 | 申请日期 | 1992.06.06 |
| 申请人 | 宇部兴产株式会社 | 发明人 | 原田胜正;安部敬章;穐吉祜二;松下明生;小干夫;白石郁雄;山本薰;叶山孝司;福田昌平 |
| 分类号 | C07D233/84;C07D239/38;C07D251/26;C07D403/12;A01N43/50;A01N43/54;A01N43/68;//(C07D403/12,239:38,251:26) | 主分类号 | C07D233/84 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 罗宏;杨九昌 |
| 主权项 | 1、式(Ⅰ)所示的嘧啶或三嗪类化合物，<img file="921044038_IMG2.GIF" wi="1069" he="338" />其中R<sup>1</sup>代表氰基、卤原子、羟基或-O-R<sup>7</sup>，这里R<sup>7</sup>代表低级烷基、低级链烯基、低级炔基、卤素-低级烷基或氰基-低级烷基；R<sup>2</sup>代表氢原子或低级烷基；R<sup>3</sup>代表氢原子或低级烷基；R<sup>4</sup>代表1-咪唑基、-NHSO<sub>2</sub>-R<sup>8</sup>(这里R<sup>8</sup>代表低级烷基或可以有一个取代基的苯基)、羟基.低级烷氧基或苄氧基(当Z为氮原子时)；或者1-咪唑基、-NHSO<sub>2</sub>-R<sup>8</sup>(这里R<sup>8</sup>的定义同上)、羟基、OK、可以有一个取代基的低级烷氧基、低级链烯氧基、低级炔氧基、可以有一个取代基的环烷氧基、苯氧基、苄氧基、低级烷硫基、苯硫基或烷基亚磺酰氨基(当Z为-CH=基团时)；R<sup>5</sup>代表低级烷氧基；R<sup>6</sup>代表低级烷氧基或低级烷基；X代表氧原子或硫原子；Z代表氮原子或-CH=基团。 | ||
| 地址 | 日本山口县 | ||