| 摘要 |
<p>Die Vorrichtung dient zur punkt- und zeilenweisen optoelektronischen Abtastung von Halbton-Vorlagen und Strich-Vorlagen. Es ist sowohl ein Halbton-Abtastsystem (3) zur Durchführung einer Halbtonabtastung als auch ein Strich-Abtastsystem (4) zur Durchführung einer Strichabtastung vorgesehen. Sowohl das Halbton-Abtastsystem als auch das Strich-Abtastsystem sind als mehrkanalige Einrichtungen ausgebildet. Zur wahlweisen Zuschaltung entweder des Halbton-Abtastsystems oder des Strich-Abtastsystems ist eine Umschalteinrichtung (5) vorgesehen.</p> |
