| 摘要 |
La presente invención se refiere a un método fotolitográifco que utiliza una fotorresistencia de dos capas, que da por resultado una resolución incompleta de la capa fotorresistiva inferior, debido a las variaciones en el pérfil y espesor del patrón fotorresistivo superior, la mejora se caracteriza porque comprende; aplicar una película fotoblanqueable sobre la superficie de la capa fotorresistiva de dos capas a la imágen de luz ultravileta, reduciendo de esa manera las variaciones y el espesor de la mascarilla conformqable portátil resultante obtenida a partir del revelado de la capa fotorressistiva superior expuesta y mejorar de esa manera la resolución del relieve de fotorresistencia de imágen resultante obtenida de la exposición y revelado subsecuentes de la capa fotorresistiva inferior.
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