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发明名称
PROCESS FOR EPITAXIAL GROWTH OF COMPOUND SEMICONDUCTOR
摘要
申请公布号
JPH04357192(A)
申请公布日期
1992.12.10
申请号
JP19910155554
申请日期
1991.05.31
申请人
NIKKO KYODO CO LTD
发明人
IMAIZUMI TOYOAKI
分类号
C30B25/02;C30B25/10
主分类号
C30B25/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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