IMPROVED METHOD AND MEANS FOR PRODUCING PHOTOMASKS.

摘要

Nouvelle structure de photomasque et procédé de fabrication de photomasques à l'aide d'un appareil d'enregistrement sans contact à décharge à étincelles. Les structures d'enregistrement comportent une couche conductrice, une couche transparente au rayonnement devant s'utiliser pour exposer le matériau photosensible cible, et éventuellement une couche de revêtement déposée sur la couche métallique.