发明名称 |
METHOD OF PRODUCING TUNGSTEN-TITANIUM SPUTTER TARGETS AND TARGETS PRODUCED THEREBY |
摘要 |
Cibles de pulvérisation cathodique en tungstène et titane d'une densité théorique de 95 % au moins n'ayant que peu ou aucun constituant de phase beta(Ti, W). Lesdites cibles minimisent les émissions particulaires gênantes dans des conditions de revêtement par pulvérisation. |
申请公布号 |
WO9218657(A1) |
申请公布日期 |
1992.10.29 |
申请号 |
WO1992US02678 |
申请日期 |
1992.04.03 |
申请人 |
TOSOH SMD, INC. |
发明人 |
WICKERSHAM, CHARLES, E., JR.;MUELLER, JOHN, J. |
分类号 |
B22F5/00;B22F3/10;B22F3/12;C22C1/04;C22C27/04;C23C14/34 |
主分类号 |
B22F5/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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