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Procédé de formation d'une structure (10) de guide d'ondes optique sur un substrat (12) consistant (a) à former une couche d'un matériau de revêtement de base sur le substrat (12), (b) à former une couche de matériau de placage (20) ayant un indice de réfraction prédéterminé sur la couche de revêtement de base, (c) à appliquer une structure (10) définissant une configuration de guide d'ondes à canaux sur la couche de matériau de placage (20), (d) à appliquer un agent de formation de motifs de manière à transférér la configuration de la structure définissant une configuration de guide d'ondes à canaux à une ou des profondeur(s) prédéterminée(s) dans la couche de matériau de placage (20) de manière à définir une configuration de tranchées pour guide d'ondes, (e) à enlever tout résidu restant de la structure (10) définissant une configuration de guide d'ondes à canaux, (f) à former une couche (16) de revêtement épaisse de matériau de guide d'ondes ayant un indice de réfraction plus élevé que le matériau de placage (20) sur ledit matériau de placage (20) et dans la configuration de tranchées pour guide d'ondes, (g) à aplanir le matériau (10) de guide d'ondes pratiquement jusqu'au plan d'une surface supérieure du matériau de placage (20) afin de réduire l'épaisseur de la couche (16) de revêtement épaisse et (h) à former une couche de matériau de placage (26) supplémentaire pour encapsuler le matériau de guide d'ondes dans la configuration des tranchées pour guide d'ondes. Un miroir (28) situé hors du plan peut être utilisé pour relier optiquement deux couches différentes. Une lentille peut être utilisée pour collimater la lumière réfléchie par le miroir (28) situé hors du plan. |
