发明名称 墙地砖釉中印花工艺
摘要 本发明公开了一种使其在烧成过程中能够在所印花纹上形成凸起的效果的建筑陶瓷墙地砖釉中印花工艺,其方法是首先在砖坯上施以一层厚底釉,然后用印花料在其上印花,再在印花面上施以一层面釉。烧成后,其花纹既有立体感及凹凸的线条花形,又有图案的基本规格及自然形成的艺术风格,表面光而不滑,耐磨性好,成本较低,适应机械化大批量生产。
申请公布号 CN1018822B 申请公布日期 1992.10.28
申请号 CN87100727.4 申请日期 1987.02.14
申请人 佛山市石湾东平陶瓷厂 发明人 霍淡泉;庞丽玉;梁燕芬
分类号 C04B41/80;B41M1/34 主分类号 C04B41/80
代理机构 广东专利事务听 代理人 朱永忠
主权项 1、一种墙地砖釉中印花工艺,其特征在于砖坯面上有一层底釉、一层印花料、一层面釉,底釉、面釉之间是一层印花料,(1)釉中印花工艺方法是首先在砖坯上施以一层厚0.0375-0.05克/厘米2底釉,干燥后、用印花料在其上印花,干燥后,在印花面上再施以一层0.006-0.0125克/里米2面釉,在温度为1160-1180℃条件下煅烧面成(2)底釉配方(重量百分比)为:55.3% SiO26.94% Al2O30.269% Fe2O38.22% CaO1.20% MgO3.76% KNaO2.30% TiO24.60% ZnO0.23% Cr2O311.10% ZrO釉料含水(重量百分比)为36-42%釉料细度为万孔筛筛余0.05-0.5%面釉配方(重量百分比)为:53.26% SiO26.81% Al2O34.21% Fe2O38.11% CaO
地址 广东省佛山市石湾镇忠信路43号