发明名称 HEAT TREATMENT OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH04302418(A) 申请公布日期 1992.10.26
申请号 JP19910091429 申请日期 1991.03.29
申请人 NEC CORP 发明人 TOMIYAMA TOMOHIKO
分类号 C30B33/02;H01L21/22;H01L21/31 主分类号 C30B33/02
代理机构 代理人
主权项
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