| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Phosphatieren von Metalloberflächen, vorzugsweise von elektrolytisch- oder schmelztauchverzinkten Stahlband-Oberflächen, durch Behandeln derselben im Tauchen oder Spritztauchen mit sauren, wäßrigen Phosphatierlösungen, wobei man gleichzeitig die Werkstücke kathodisch mit einem Gleichstrom behandelt. Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß man (a) mit Phosphatierlösungen arbeitet, die die folgenden Komponenten enthalten: Zn2+-Kationen im Bereich von 0,1 bis 5 g/l, PO¿4?3--Anionen im Bereich von 5 bis 50 g/l, NO¿3-?-Anionen im Bereich von 0,1 bis 50 g/l, sowie Ni?2+¿-Kationen im Bereich von 0,1 bis 5 g/l, und/oder Co2+-Kationen im Bereich von 0,1 bis 5 g/l, (b) wobei man die folgenden Bedingungen einhält: pH-Wert der Phosphatierlösungen im Bereich von 1,5 bis 4,5, Temperatur der Phosphatierlösungen im Bereich von 10 bis 80 °C, Behandlungsdauer im Bereich von 1 bis 300 sec, (c) und wobei man ferner während der Phosphatierung die Werkstücke kathodisch mit einem Gleichstrom einer Dichte im Bereich von 0,01 bis 100 mA/cm2 behandelt.</p> |
