| 发明名称 |
PROCESS AND APPARATUS FOR DEPOSITING OF HIGH OHMIC RESISTANCE LAYERS BY CATHODIC SPUTTERING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0282836(B1) |
申请公布日期 |
1992.10.14 |
| 申请号 |
EP19880103333 |
申请日期 |
1988.03.04 |
| 申请人 |
LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
WIRZ, PETER, DR. |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/35;C23C14/56;H01J37/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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