发明名称 |
Radiation-sensitive composition comprising naphthoquinone-di-azide-sulfonic acid esters and recording material produced therewith. |
摘要 |
Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, das ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen jedoch lösliches, zumindest aber quellbares harzartiges Bindemittel, mindestens eine strahlungsempfindliche Verbindung sowie gegebenenfalls einen Vernetzer enthält. Die strahlungsempfindliche Verbindung ist ein Ester aus a) einer Verbindung mit 2 bis 6 aromatischen Hydroxygruppen, b) einer kernsubstituierten o-Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonsäure (Diazoverbindung D1) und c) einer nicht weiter substituierten o-Naphthochinon-2-diazid-4- bzw. -5-sulfonsäure (Diazoverbindung D2) und/oder einer nicht strahlungsempfindlichen organischen Säure (Verbindung D0), wobei das molare Verhältnis von D1 zu (D2 und/oder D0) zwischen 0,1:1 und 30:1 liegt.
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申请公布号 |
EP0508268(A1) |
申请公布日期 |
1992.10.14 |
申请号 |
EP19920105466 |
申请日期 |
1992.03.30 |
申请人 |
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
SCHELER, SIEGFRIED, DR.;ZAHN, WOLFGANG, DR.;SCHMITT, AXEL, DR.;BUHR, GERHARD, DR. |
分类号 |
G03F7/00;G03F7/022;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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