发明名称 Radiation-sensitive composition comprising naphthoquinone-di-azide-sulfonic acid esters and recording material produced therewith.
摘要 Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, das ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen jedoch lösliches, zumindest aber quellbares harzartiges Bindemittel, mindestens eine strahlungsempfindliche Verbindung sowie gegebenenfalls einen Vernetzer enthält. Die strahlungsempfindliche Verbindung ist ein Ester aus a) einer Verbindung mit 2 bis 6 aromatischen Hydroxygruppen, b) einer kernsubstituierten o-Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonsäure (Diazoverbindung D1) und c) einer nicht weiter substituierten o-Naphthochinon-2-diazid-4- bzw. -5-sulfonsäure (Diazoverbindung D2) und/oder einer nicht strahlungsempfindlichen organischen Säure (Verbindung D0), wobei das molare Verhältnis von D1 zu (D2 und/oder D0) zwischen 0,1:1 und 30:1 liegt.
申请公布号 EP0508268(A1) 申请公布日期 1992.10.14
申请号 EP19920105466 申请日期 1992.03.30
申请人 HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 SCHELER, SIEGFRIED, DR.;ZAHN, WOLFGANG, DR.;SCHMITT, AXEL, DR.;BUHR, GERHARD, DR.
分类号 G03F7/00;G03F7/022;H01L21/027 主分类号 G03F7/00
代理机构 代理人
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