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发明名称 ALKALINE SOLUTION FOR DEVELOPING POSITIVE PHOTORESISTS
摘要
申请公布号 EP0124297(B2) 申请公布日期 1992.10.14
申请号 EP19840302254 申请日期 1984.04.02
申请人 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED 发明人 NIWA, KENJI;ICHIKAWA, ICHIRO
分类号 G03C1/72;G03F7/32;(IPC1-7):G03F7/26 主分类号 G03C1/72
代理机构 代理人
主权项
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