| 摘要 |
Réacteur à plasma à puissance hf (43) couplé de manière inductive dans la chambre (50) du réacteur, afin de produire un champ magnétique hf perpendiculaire à un piédestal sur lequel une tranche est placée pour être traitée. Le piédestal est une électrode alimentée en puissance, à laquelle une puissance (51) est couplée afin de commander la tension de la cuirasse du piédestal. Ce réacteur est particulièrement adapté à des gravures tendres et à des procédés dans lesquels il est avantageux de coupler beaucoup plus de puissance dans la production d'ions que dans la production de radicaux libres. Des cages de Faraday (46) ainsi qu'une source de champs magnétiques (53 à 55) contribuent à contenir la puissance dans la chambre. |
