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1.一种制造陶瓷介电组成物之方法,该组成物在主 要陶瓷 粒子组份的表面上均匀分布第二组份的混合物,此 方法包 括下列各步骤:(a)以受控制之速率,添加金属螫合 物的 浓缩安定溶液至主要陶瓷粉末上,同时在粉末之液 态极限 下剧烈搅拌混合物以便在主要粒子表面上,均匀分 布第二 组份及(b)乾燥及煆烧粉末而分解金属螫合物并除 去挥发 性残渣。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中 ,主要陶瓷粉 末具有式:ABO3,其中,A主要是一种 土盒属,铅或其 混合物,而B主要是 ,锆或其混合物。3.如申请专利 范围第1项所述之方法,其中,主要陶瓷粉 末包括:矾土,矽石及各种矽酸盐。4.如申请专利范 围第1或第2项之方法,其中,金属螫合物 的溶液包含:在具有一种螫合剂之溶剂中的金属化 合物。5.如申请专利范围第4项所述之方法,其中, 金属化合物 是具有通式:MXn,其中,M是包含钡,钙,鳃,镁,钳, 钛,锌,锡,钕,钐,镨,铌,钽,钨,锑,铋,铁,钴 ,铬,铜,镍,锰,锌,矽,硼,铝及其混合物之一种金 属阳离子;X是选自下列之一种阴离子或原子团:HCO- 2, CH3CO3,-O2C-CO2-,-0H,-OR,-NO3C -及其混合物;n 是基于金属阳离子M+n的原子价状态之自2至6整数,M +n。6.如申请专利范围第4项所述之方法,其中,溶剂 是去离 子水或去离子水与水混溶性有机溶剂的混合物,视 情况, 其有少量的湿润剂或界面活性剂亦在。7.如申请 专利范围第4项所述之方法,其中,螫合剂系选 自:在将PH値调节至5至10范围内以后,自能与一种金 属 阳离子形成可溶性螫合物之一群组中。8.如申请 专利范围第7项所述之方法,其中,螫合剂系选 自-经基羧酸或-胺基羧酸。9.如申请专利范围 第7项所述之方法,其中,将pH値,经 由加入选自氢氧化铵,四甲铵化氢氧或二甲胺之一 种碳予 以调节至5至10范围内之数値。10.一种改良型介电 陶瓷组成物,此组成物包括:少于整 个组成物之10重量%之第二组份混合物,且系选自钡 、钙 、锶、镁、铅、钛、锆、锡、钕、钐、镨、铌、 钽、钨、 锑、铋、铁、钴、铬、铜、镍、锰、锌、矽、硼 、铝及其 混合等之氧化物;其中该第二组份均匀分布于整个 主要陶 瓷组分表面上之涂层中,该主要陶瓷构成整个组成 物之至 少90重量%至99.75重量%,且系选自矾土、氧化矽,耐 火 之矽酸盐及ABO3,其中A主要是硷土金属、铅或其混 合物 ;而B主要是钛、锆、或其混合物。11.如申请专利 范围第10项之组成物,其中,A是钡,而B 是钛,其中含有:0-4wt%ZrO2,0-1wt%2ZnO和0-2wt% Nb2O5,而第二组份包含:0-2wt%2ZnO,0-0.5wt%B2O3,0 -0.1wt%MnO和0-6wt%CaO,且并不构成多于10wt%的总组成 物。12.一种可网版印刷之厚膜组成物,其包括具有 均匀分布 之混合添加物的陶瓷粉末粒子,其系由包括下列步 骤之方 法制成:(a)以受控制之速率添加金属螫合物之浓缩 安定 溶液于主要陶瓷粉末中,同时,在粉末之液态极限 下激烈 搅拌混合物,以使第二组份均匀分布于表面上;(b) 乾燥 并煆烧粉末以分解金属螫合物并除去挥发性残渣; 且(c) 在一挥发性溶剂中,任意混合陶瓷粉末之未涂覆之 粒子。 |
