| 发明名称 |
RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION PROCESS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US5153103(A) |
申请公布日期 |
1992.10.06 |
| 申请号 |
US19910667897 |
申请日期 |
1991.03.12 |
| 申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
KOTACHI, AKIKO;TAKECHI, SATOSHI |
| 分类号 |
C08F20/02;C08F20/22;C08F20/52;C08F30/08;C08F220/02;C08F220/22;C08F220/56;C08F220/58;C08F230/08;G03F7/004;G03F7/075;G03F7/26;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/3213 |
主分类号 |
C08F20/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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