Process and device for depositing an enamel layer.

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abscheiden einer Emailleschicht. Dabei wird ein Werkstück (1) mit zu emaillierenden Werkstückflächen (3) in ein Emailleschlickerbad (5) eingetaucht, wobei zwischen einer dem Emailleschlickerbad (5) zugeordneten Kathode und dem Werkstück (1) als Anode eine Gleichspannung angelegt wird, um eine Emailleschicht auf Werkstückflächen (3) abzuscheiden. Erfindungsgemäß wird zur Beeinflussung der Dicke einer Emailleschicht, die auf einer vorgebbaren Werkstückfläche (13) abgesschieden wird, der vorgebbaren Werkstückfläche (13) im Abstand ein Abschirmelement (15) zugeordnet. <IMAGE>