| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE, HEAT-RESISTANT RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMATION PROCESS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0453237(A3) |
申请公布日期 |
1992.09.30 |
| 申请号 |
EP19910303379 |
申请日期 |
1991.04.16 |
| 申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
TANI, MOTOAKI;HORIKOSHI, EIJI;WATANABE, ISAO |
| 分类号 |
C08L79/08;C08G73/10;C09D4/02;C09D179/08;G03F7/037;H05K3/00;H05K3/38;H05K3/46;(IPC1-7):G03F7/037 |
主分类号 |
C08L79/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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