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发明名称 HEAT TREATMENT OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH04273129(A) 申请公布日期 1992.09.29
申请号 JP19910055951 申请日期 1991.02.27
申请人 SONY CORP 发明人 YAMAZAKI TOSHIYUKI
分类号 H01L21/31;H01L21/322;H01L21/324 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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