| 发明名称 |
FORMATION OF LAYER INSULATION FILM FOR SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH04273439(A) |
申请公布日期 |
1992.09.29 |
| 申请号 |
JP19910034606 |
申请日期 |
1991.02.28 |
| 申请人 |
KAWASAKI STEEL CORP |
发明人 |
HIRATA TADASHI;SATO NOBUYOSHI |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;H01L21/3205;H01L21/3213 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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