| 主权项 |
1911601.一种用于氧化反应之含有铁-锑-钼之氧化物 触媒组成物,其包括具有100 或以上晶粒大小之晶 性锑酸铁,该触媒系由下列实验式所示: FeSbMoLKMNQERTOABCDEMNQREX式中L表示由Bi及Te所组成之群 中选出之至少一元素;M表示由Cu、Mg、Zn、La、Ce、A 、Cr、Mn、Co、Ni及Sn所组成之群中选出之至少一 元素;N表示由Be、Ca、Sr、Ba、Y、Pr、Nd、Th、U、Ti 、Zr、Hf、Nb、Ta、Re、Ru、Os、Rh、Ir、Pd、Pt、Ag、 Au、Cd、A 、Ga、In、Ge及Pb所组成之群中选出之至 少一元素:Q表示由V及W所组成之群中选出之至少一 元素:R表示由Li、Na、Rb、Cs及T 所组成之群中选出 之至少一元素;T表示由B、P、As及Se所组成之群中 选出之至少一元素:a、b、c、d、e、m、n、q、r、t 及x各为原子比,其中a为10.b为5至60.c为5至30.d为0.01 至10.e为0.01至5.m为0至30.n为0至10.q为0至5.r为0至3.t 为0至5,及x为依据藉由上述各成份结合所形成之对 应氧化物而测定之氧原子数者。 2.如申请专利范 围第1项之触媒组成物,其中触媒中锑酸铁之晶粒 大小为不小于200 者。3.如申请专利范围第1项之触 媒组成物,其中M表示由Mg、Zn、Ce、Cr、Mn、Co、及Ni 所组成之群中选出之至少一元素;N表示由Ti、Zr、 Nb、Pd、Ag、Ga及Pb所组成之群中选出之至少一元素 ;R表示由Li、Na、及Cs所组成之群中选出之至少一 元素;及T表示B及/或P者。4.如申请专利范围第1项 之触媒组成物,其中触媒组成物中各成份之比率为 当a为10.b为6至30.c为6至20.d为0.1至8.e为0.02至2.m为0 至20.n为0至5,q为0至4.r为0至2/5及t为0至4者。5.如申 请专利范围第1项之触媒组成物,其中当P被使用作T 成份时,P/Fe之原子比率为不高于0.3者。6.如申请专 利范围第1项之触媒组成物,其中该氧化物触媒乃 支载于一载体上者。7.一种用于氧化反应之含有 铁-锑-钼之氧化物触媒组成物之制法,此触媒组成 物包括具有100 或以上晶粒大小之晶性锑酸铁,该 触媒系由下列实验式所示:FeSbMoLKMNQRTOabcdemnqrtx式 中L表示由Bi及Te所组成之群中选出之至少一元素;M 表示由Cu、Mg、Zn、La、Ce、A、Cr、Mn、Co、Ni及Sn所 组成之群中选出之至少一元素;N表示由Be、Ca、Sr 、Ba、Y、Pr、Nd、Th、U、Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、Re、Ru 、Os、Rh、Ir;Pd、Pt、Ag、Au、Cd、A 、Ga、In、Ge及Pb 所组成之群中选出之至少一元素;Q表示由V及W所组 成之群中选出之至少一元素;R表示由Li、Na、Rb、Cs 、及T 所组成之群中选出之至少一元素;T表示由B 、P、As及Se所组成之群中选出之至少一元素;a、b 、c、d、e、m、n、q、r、t、及x各为原子比,其中a 为10.b为5至60.c为5至30.d为0.01至10.e为0.01至5.m为0至 30.n为0至10.q为0至5.r为0至3.t为0至5,及x为依据藉由 上述各成份结合所形成之对应氧化物而测定之氧 原子数,此制法包括制备一种水相浆体,其包含做 为主成份之(i)锑酸铁,(ii)钼,(iii)由铋及锗所组成 之群中选出之至少一元素,及(iv)钾,或一种水相浆 体,其包含主成份[(i)(ii)(iii)及(iv)]及(v)由上述经验 式中M、N、Q、R及T所示之触媒成份所组成之群中 选出之至少一元素;于温度120℃至400℃下乾燥水相 浆体;及最后于温度为450℃至750℃下 烧已乾燥之 产物者。8.如申请专利范围第7项之制法,其中该水 相浆体包含载体成份之原料者。9.如申请专利范 围第7项之制法,其中该水相浆体之pH値乃被调整至 不低于5者。10.如申请专利范围第7项之制法,其中 该水相浆体之pH値乃被调整至不高于7者。11.如申 请专利范围第7项之制法,其中该水相浆体之6pH値 乃被调整至不低于6及该水相浆体包含钳合剂者。 12.如申请专利范围第7项之制法,其中该水相浆体 之PH値乃被调整至不低于6及该水相浆体包含钳合 剂及铁化合物者。 |
