发明名称 METHOD FOR PRODUCTION OF SUPERCONDUCTING LAYER
摘要 An interlayer (12) which comprises at least one yttrium-stabilised zirconium oxide layer is grown epitaxially on the substrate (11). The superconducting layer (13) is grown epitaxially on the interlayer (12). …<IMAGE>…
申请公布号 JPH04265222(A) 申请公布日期 1992.09.21
申请号 JP19910301071 申请日期 1991.10.21
申请人 SIEMENS AG 发明人 HARARUTO SHIYUMITSUTO;KURAUDEIA FURADEIRU;UORUFURAMU UERUJINGU
分类号 C01G1/00;C01G3/00;C04B35/48;C23C14/08;C23C14/35;C30B23/02;H01L39/24 主分类号 C01G1/00
代理机构 代理人
主权项
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