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发明名称
METHOD FOR FORMING DEPOSITED FILM BY MICROWAVE PLASMA CVD AND DEVICE THEREFOR
摘要
申请公布号
JPH04263079(A)
申请公布日期
1992.09.18
申请号
JP19910045428
申请日期
1991.02.19
申请人
CANON INC
发明人
HASHIZUME JUNICHIRO;SHIRASAGO TOSHIYASU
分类号
C23C16/50;C23C16/511
主分类号
C23C16/50
代理机构
代理人
主权项
地址
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