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发明名称 METHOD FOR FORMING MAGNETIC FIELD FOR MAGNETRON SPUTTERING AND DEVICE THEREFOR
摘要
申请公布号 JPH04263067(A) 申请公布日期 1992.09.18
申请号 JP19910023393 申请日期 1991.02.18
申请人 FUJITSU LTD 发明人 FUJINUMA AKIRA
分类号 C23C14/34;C23C14/35;H01L21/203;H01L21/285 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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