发明名称 |
ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD USING THE SAME |
摘要 |
|
申请公布号 |
US5148033(A) |
申请公布日期 |
1992.09.15 |
申请号 |
US19910769343 |
申请日期 |
1991.10.02 |
申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
YAMADA, AKIO;SAKAMOTO, KIICHI |
分类号 |
H01L21/027;G03F7/20;H01J37/21;H01J37/302;H01J37/317 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|