| 主权项 |
1.一种阳离子聚合性有机材料组合物,系在以阳离 子聚合 催化剂及阳离子聚合性有机材料作为必备成分之 组合物中 ,再添加一种或二种以上具有选自卤离子(hologenion) , 高氯酸盐离子,C1-C4烷基硫酸离子及对一甲苯磺酸 离子( p-toluene)sulfonate ion)之亲核性对阴离子之(onium) 盐,或以一般式(I)所表示之铁芳香族化含物之盐而 成者 。(其中,R系氢,卤素,或C1-C4之烷基(alkyl group); X系卤素,高氯酸,烷硫酸,或对苯甲磺酸)2.根据申请 专利范围第1项之阳离子聚合性有机材料组合 物,其中, 盐为铳(sulfonium)盐者。3.根据申请专利范 围第1项或第2项之阳离子聚合性有机材 料组合物,其中, 盐系以下记一般式(Ⅱ)所表示者 。[ 其中,R1系示氢,甲基,乙醯基(acetyl group),甲氧羰 基(methoxycarbonyl group),乙氧羰基 ( ethoxycarbonyl group),或苯甲氧羰基(benzyl oxy carbonyl group);R2,R3分别表示氢,卤素,或C1-C4之 烷基(alkyl group);R4系表示C1-C4之烷基;Q系表示C1- C4之烷基,苯甲基(benzyl group),甲基苯甲基(methyl benzyl group),氯苯甲基(chloro benzyl group),硝苯 甲基(nitro benzyl group),二硝苯甲基(dinitro benzyl group),或 甲基(naphthyl methyl group);X 系表示卤素(halogen),高氯酸,烷硫酸,或对一甲苯磺 酸]。4.根据申请专利范围第1项或第2项之阳离子 聚合性有机材 料组合物,其中,在申请专利范围第3项之一般式(Ⅱ )中 ,Q系非取代苯甲基(benzyl group)或取代苯甲基者。5. 根据申请专利范围第1项或第2项之阳离子聚合性 有机材 料组合物,其中,(onium)盐为氯化对-硝苯甲基-4-羟苯 基甲基 (p-nitrobenzyl)-4-hydroxy phenyl methyl sulfoniumchloride)者。6.根据申请专利范围第1项或第2 项之阳离子聚合性有机材 料组合物,其中, 盘为对-羟苯基二甲基 甲硫酸盐(p - hydroxy phenyl dimethyl sulfoniummethyl sulfate)者 。7.根据申请专利范围第1项或第2项之阳离子聚合 性有机材 料组合物,其中, 盐为氯化三苯 (tri phenyl sulfoniumchloride)者。8.根据申请专利范围第1项之阳 虽子聚合性有机材料组合 物,其中, 盐为铵盘者。9.根据申请专利范围第1项 之阳虽子聚合性有机材料组合 物,其中, 盐(onuim)salt)为鏻盐(phosphonium salt) 者。10.根据申请专利范围第1项或第2项之阳离子 聚合性有机 材料组合物,其中,阳离子聚合性有机材料为环氧 化合物 者。11.根据申请专利范围第1项或第2项之阳离子 聚合性有机 材料组合物,其中,阳离子聚合性有机材料为阳杂 子聚合 性乙烯(vinyl)化合物者。12.根据申请专利范围第1 项或第2项之阳离子聚合性有机 材料组合物,其中,阳离子聚合性有机材料为环状 有机醚 者。13.一种阳离子聚合性有机材料组合物之安定 方法,该组 合物系具有申请专利范围第1-第12项中任一项之组 成者 。14.根据申请专利范围第13项之组合物安定方法, 其中, 相对阳离子聚合催化剂100重量份,系添加具有选自 卤离 子,过氯酸离子,烷基硫酸离子及对-甲苯磺酸离子 之亲 核性对阴离子的 盐,或以申请专利范围第1项之一 般式( I)所表示的铁芳香族化合物盐之一种或二种以上0. 01-20 重量份者。15.一种阳离子聚合性有机材料组合物 之安定剂,系由具 有选自卤离子,过氯酸离子,烷硫酸离子及对一甲 苯磺酸 离子之亲核性对阴离子的 盐或以下列一般式(I)所 表示 之铁芳香族化合物盐之一种或二种所组成者,其中 ,R系 表示氢,卤素,或C1-C4之烷基; X系表示卤素,高氯酸 ,烷硫酸,或对-甲苯磺酸。16.根据申请专利范围第 15项之安定剂,其中 盐为 盐( sulfonium aslts)者。17.根据申请专利范围第15项或第 16项之安定剂,其中, 盐(onium salt)为以下述一般式(Ⅱ)所表示者:[其中 , R1系表示氢,甲基,乙醯基(acetyl group),甲氧 羰基(methoxycarbonyl group),乙氧羰基 ( ethoxycarbonyl group),或苯甲氧羰基(benzyl oxy carbonyl group);R2,R3分别表示独立之氢,卤素,或 C1-C4之烷基;R4系表示 C1-C4之烷基;Q系表示 C1-C4之 烷基,苯甲基 (benzylgroup) ,甲基苯甲基( methyl benzylgroup) , 氯苯甲基 (chloro benzylgroup) , 硝苯甲基 (nitro benzylgroup ) , 二硝苯甲基 ( dinitrobenzyl group); 或 甲基 ( naphthylmethyl group);X系表示卤素,高氯酸,烷硫酸 ,或对一甲苯磺酸]。18.根据申请专利范围第15或第 16项之安定剂,其中,在 一般式(Ⅱ)中,Q为非取代苯甲基(benzyl group)或取代 苯甲基者。19.根据申请专利范围第15或第16项之安 定剂,其中, 盐为氯化对-硝苯甲基-4-羟苯基甲基 (p-nitro benzyl- 4-hydroxy phenyl methyl sulfoniumchlorde)者。20.根据申请 专利范围第15或第16项所记载之安定剂,其 中,铝盐为对一羟苯基二甲基 甲硫酸盐(P-hydroxy phenyldimethl sulfonium emethyl sulate)者。21.根据申请专 利范围第15项或第16项之安定剂, 其 中, 盐为氯化三苯 (triphenyl sulfonium chloride)者。22.根据申请专利范围第15项之安定剂, 其中, 盐为铵 盐者。23.根据申请专利范围第15项之安定剂,其中, 盐为鏻 |
