| 发明名称 |
Photosensitizers for polysilanes. |
| 摘要 |
<p>Positive resist compositions for use in the manufacture of printed circuits comprising polysilanes and sulfosuccinimide photosensitizers. <IMAGE> <IMAGE></p> |
| 申请公布号 |
EP0502677(A1) |
申请公布日期 |
1992.09.09 |
| 申请号 |
EP19920301771 |
申请日期 |
1992.03.02 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
BAIER, MARK EDWIN;MILLER, ROBERT DENNIS;WALLRAFF, GREGORY MICHAEL |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/039;G03F7/075;G03F7/26;H01L21/027;H01L21/30 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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