| 发明名称 |
TREATMENT APPARATUS OF SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH04245428(A) |
申请公布日期 |
1992.09.02 |
| 申请号 |
JP19910027716 |
申请日期 |
1991.01.30 |
| 申请人 |
MITSUBISHI ELECTRIC CORP |
发明人 |
ISHIKAWA HIROAKI;KOTO SATORU;TOYODA MASATO |
| 分类号 |
C23F4/00;H01L21/302;H01L21/3065 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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