| 发明名称 |
PLASMA GENERATION DEVICE AND ETCHING METHOD USING IT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH04242924(A) |
申请公布日期 |
1992.08.31 |
| 申请号 |
JP19900418695 |
申请日期 |
1990.12.31 |
| 申请人 |
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD |
发明人 |
KOINUMA HIDEOMI;YAMAZAKI SHUNPEI;HAYASHI SHIGENORI |
| 分类号 |
C23F4/00;B29C59/14;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;H05H1/46 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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