| 摘要 |
<p>Das Plasmaspritzgerät enthält ein indirektes Plasmatron zur Erzeugung eines Langlichtbogens, mit einem Plasmakanal (4) zwischen der Kathodenanordnung (1, 20) und dem Anodenring (3). Die Kathodenanordnung weist einen zentralen Isolationskörper (21) auf, welcher in den Hohlraum (22) einer Einlaufdüse (5) des Plasmakanals (4) ragt. Durch einen Ringkanal (23) zwischen Isolationskörper (21) und Düsenwandung wird das Plasmagas in die Einlaufdüse (5) eingeleitet. Mehrere stabförmige, in den Isolationskörper (21) eingebettete Kathoden (1) verlaufen parallel zueinander und sind im Kreis um eine zentrale Achse (2) verteilt angeordnet, deren aktive Enden (63) aus dem Isolationskörper (21) hervor in den Düsenhohlraum ragen. Die Zufuhr des Spritzmaterials (SM) erfolgt am kathodenseitigen Ende des Plasmakanals (4) durch ein Rohr (24), welches sich längs der zentralen Achse (2) durch den Isolationskörper (21) erstreckt und in den Düsenhohlraum mündet, wobei die Kathodenenden (20) über die Rohrmündung (25) hinausragen. Durch eine hohe Energiekonzentration im Düsenhohlraum wird dem Spritzmaterial in diesem Bereich und durch den Langlichtbogen längs des ganzen Plasmakanals Energie zugeführt, so dass das Spritzmaterial in geschmolzenem Zustand mit hoher Beschleunigung aus dem Gerät austritt. Der Anodenring hat keine Düsenfunktion und kann deshalb weit genug sein, um vom Spritzmaterial nicht getroffen zu werden. <IMAGE></p> |
