发明名称 Etching solution for wet processes in semiconducteur fabrication.
摘要 <p>Die vorliegende Erfindung betrifft eine wäßrige Ätzlösung, die Ammoniumfluorid, Flußsäure sowie ein oder mehrere primäre aliphatische Amine mit einer Kettenlänge von 6 bis 18 Kohlenstoffatomen enthält, dadurch gekennzeichnet, daß Ammoniumfluorid in Mengen von 0,1 bis 17,5 Gew.%, Flußsäure in Mengen von 0,1 bis 10 Gew.% und Amin in Mengen von mindestens 10 ppm enthalten sind unter der Voraussetzung, daß Ammoniumfluorid im Überschuß gegenüber Flußsäure vorliegt.</p>
申请公布号 EP0499830(A2) 申请公布日期 1992.08.26
申请号 EP19920101207 申请日期 1992.01.25
申请人 RIEDEL-DE HAEN AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 LEIFELS, JOACHIM;SIEVERT, WOLFGANG, DR.
分类号 H01L21/308;H01L21/306;H01L21/311 主分类号 H01L21/308
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利