首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS
摘要
申请公布号 KR920007022(B1) 申请公布日期 1992.08.24
申请号 KR19890013120 申请日期 1989.09.11
申请人 SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. 发明人 YAMAZAKI, SHUNPEI;TSUCHIYA, MITSUNORI;HAYASHI, SHIGENORI;HIROSE, NAOKI;ISHIDA, NORIYA;SASAKI, MARI;KAWANO, ATSUSHI
分类号 C23C16/26;C23C16/517;(IPC1-7):C23C16/26 主分类号 C23C16/26
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com