INTEGRIERTER SCHALTKREIS ZUR ABSCHIRMUNG VON LADUNGSTRAEGERINJEKTIONEN IN DAS SUBSTRAT, INSBESONDERE BEI SCHALTKREISEN MIT INDUKTIVEN UND KAPAZITIVEN LASTEN.
摘要
申请公布号
DE3780390(D1)
申请公布日期
1992.08.20
申请号
DE19873780390
申请日期
1987.09.15
申请人
SGS-THOMSON MICROELECTRONICS S.R.L., AGRATE BRIANZA, MAILAND/MILANO, IT
发明人
BERTOTTI, FRANCO, I-20148 MILANO, IT;FERRARI, PAOLO, I-21013 GALLARATE VARESE, IT;GATTI, MARIA TERESA, I-20128 MILANO, IT
