| 发明名称 |
SILICON SUBSTRATE HAVING EPITAXIAL SUPERCONDUCTIVE LAYER, AND ITS MANUFACTURE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH04226090(A) |
申请公布日期 |
1992.08.14 |
| 申请号 |
JP19910086497 |
申请日期 |
1991.04.18 |
| 申请人 |
UNIV LELAND STANFORD JR |
发明人 |
JIYOOJI AREN NEEBUIRU KOONERU;DEIBUITSUDO BURITEIN FUENAA;JIEIMUZU BATSUKURII BOISU;DEIBUITSUDO KAATORANDO FUOOKU |
| 分类号 |
C01G1/00;C01G3/00;C30B23/02;C30B29/06;C30B29/22;C30B33/08;H01L21/203;H01L39/24 |
主分类号 |
C01G1/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
