PROCESS AND DEVICE FOR THE ANALYSIS OF SUPERFICIAL AND/OR DEEP PROFILES

摘要

Un procédé sert à effectuer une analyse de profils en surface et en profondeur d'échantillons entièrement ou partiellement non électroconducteurs par la méthode de bombardement direct de la spectrométrie de masse aux particules neutres secondaires (SNMS). Afin de pouvoir dévier les courants ioniques perturbateurs, une tension alternative de haute fréquence ayant un rapport cyclique approprié est appliquée à la face inférieure de l'échantillon qui est en contact avec le plasma sous basse pression utilisé selon le procédé SNMS, de sorte que pendant la partie à tension négative de la période de haute fréquence l'échantillon soit bombardée par des ions positifs qui sortent du plasma avec une énergie cinétique constante, alors que pendant la partie à tension positive de la période de haute fréquence la charge ionique appliquée est à nouveau compensée par un afflux d'électrodes plasmiques.