| 发明名称 |
PLASMA TREATMENT OF SUBSTRATE AND DEVICE THEREFOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH04216623(A) |
申请公布日期 |
1992.08.06 |
| 申请号 |
JP19900411218 |
申请日期 |
1990.12.17 |
| 申请人 |
EMU SHII EREKUTORONIKUSU KK |
发明人 |
KUDO DAIJIRO;SANNOMIYA RYUICHI;SANADA MASARU |
| 分类号 |
C23F4/00;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/302;H01L21/3065 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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