内射流真空均质乳化装置

摘要

本发明涉及一种内射流真空均质乳化装置，可将被乳化物料的分散相颗粒平均直径缩小到1—2微米。其增速均质器位于真空乳化罐底部，上端与内射流乳化反应器相连，两者内部相通。增速均质器转子的转轴下端与变速电机相连，低速刮壁搅拌器的转轴穿出真空乳化罐罐盖与减速机相连。在增速均质器、内射流乳化反应器和低速刮壁搅拌器的共同作用下，可使真空乳化罐内的全部被乳化物料实现乳化、均质、传热均一化。

主权项

1、内射流真空均质乳化装置，包括油相原料加热搅拌罐、水相原料加热搅拌罐、真空乳化罐、低速刮壁搅拌器、真空泵、升举机构、翻倒机构、电机、减速机和变速电机等部分，其特征在于它还包括一个增速均质器3和一个内射流乳化反应器4；增速均质器3位于真空乳化罐1内底部中央，其上端与内射流乳化反应器4相连，两者内部相通，其下端则与变速电机7相连；低速刮壁搅拌器2的转轴穿出罐盖11与减速机6相连。