发明名称 | 薄覆铜因瓦片材制备方法 | ||
摘要 | 本发明涉及高性能印制电路板用薄覆铜因瓦片材制备方法。本发明属于印制电路板制造技术领域。本发明是利用电镀法制备薄覆铜因瓦片材。本方法是利用电镀前的预处理及处理中使用特殊配方的溶液,以保证合金表面不被氧化,保证电镀质量。本发明与现有技术相比具有如下优点:设备投资少、见效快,特别适应新产品研制开发阶段用料少、品种多的特点;利用本方法制备的覆铜因瓦片材,具有热膨胀系数低,散热性好,电容量大,电磁屏蔽性好;不用增设散热装置,使整机便于安装和维修。 | ||
申请公布号 | CN1063319A | 申请公布日期 | 1992.08.05 |
申请号 | CN91100149.2 | 申请日期 | 1991.01.15 |
申请人 | 机械电子工业部第十五研究所 | 发明人 | 马慧君;段云雷 |
分类号 | C25D5/26;C25D3/38;C25D5/36;H05K1/09 | 主分类号 | C25D5/26 |
代理机构 | 机械电子工业部电子专利服务中心 | 代理人 | 徐娴 |
主权项 | 1、一种高性能印制电路板用的薄覆铜因瓦片材制备方法,其特征在于:利用电镀法制备薄覆铜因瓦片材。 | ||
地址 | 100083北京市619信箱18分箱 |