Container for holding workpieces, in form of disks, in particular semiconductor wafers, in a chemical surface treatment with liquid baths.

摘要

Es wird ein Magazin insbesondere zum Ätzen von Halbleiterscheiben im Flüssigkeitsbad angegeben, welches einen Einsatz (5) mit dem 1,1 - 1,9-fachen Durchmesser einer Scheibe (6) enthält, der aus durch Distanzstreben (8) in einem Abstand von mindestens zweifacher Scheibendicke parallel gehaltenen Anordnungen von Führungsstrebenbündeln (12) besteht. Die Führungsstrebenbündel (12) bestehen aus Hauptführungsstreben (9) und Nebenführungsstreben (10), die an den Verknüpfungsstellen (13), die nicht auf der Gehäuseachse liegen, in höchstens drei Richtungen auseinanderlaufen. Dieses Ätzmagazin ermöglicht eine deutliche Reduzierung der üblicherweise bei Ätzbehandlungen beobachteten Verschlechterung der Scheibengeometrie.