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经营范围
发明名称
METHOD OF REMOVING THE OXIDE FILM FROM SILICON SUBSTRATE
摘要
申请公布号
JPH04214626(A)
申请公布日期
1992.08.05
申请号
JP19900401464
申请日期
1990.12.12
申请人
FUJITSU LTD
发明人
SUGITA YOSHIHIRO
分类号
H01L21/302
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
地址
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