| 发明名称 |
VERTICAL HEAT TREATMENT APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR COMPONENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH04211119(A) |
申请公布日期 |
1992.08.03 |
| 申请号 |
JP19910030232 |
申请日期 |
1991.02.25 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
FURUYAMA MITSUTOSHI;TAKAHASHI KOICHI;SONOBE HIRONORI |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/00;H01L21/22;H01L21/31 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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