发明名称 |
PLASMA GENERATING DEVICE AND ETCHING METHOD BY THE DEVICE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH04212253(A) |
申请公布日期 |
1992.08.03 |
申请号 |
JP19900286883 |
申请日期 |
1990.10.23 |
申请人 |
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD |
发明人 |
KOINUMA HIDEOMI;YAMAZAKI SHUNPEI;HAYASHI SHIGENORI;MIYANAGA SHOJI;SHIRAISHI TADASHI |
分类号 |
C23F4/00;B29C47/12;B29C59/14;H01J37/305;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;H05H1/26;H05H1/46 |
主分类号 |
C23F4/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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