| 发明名称 |
METODO PER FORMARE UN MICROMODELLO SOTTO IL LIMITE DI RISOLUZIONE DI UN PROCESSO FOTOLITOGRAFICO |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
ITMI912235(A1) |
申请公布日期 |
1992.07.31 |
| 申请号 |
IT1991MI02235 |
申请日期 |
1991.08.09 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
HAN WOO-SUNG |
| 分类号 |
G03F7/20;G03F7/40;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/308 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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