纯态膜之形成方法,申请号TW081101139-传众专利搜索

发明名称	纯态膜之形成方法
摘要	本发明之目的在提供一种钝态膜之形成方法，其可使气体放出量更减少，且使吸附之气体更易脱离。本发明之钝态膜之形成方法，其特征为：将表面粗度为Rmax 1.0μm以下之不锈钢构件，在露点温度为 -95℃以下，且不纯物浓度为 10ppb以下，而含有 5ppm～25容积％之氧气的氧气气体与钝气之混合气体环境中，于 300～420℃之温度下加热之，藉以形成钝态膜。
申请公布号	TW187741	申请公布日期	1992.07.21
申请号	TW081101139	申请日期	1992.02.18
申请人	大阪氧气工业股份有限公司	发明人	大见忠弘;太田荣治;仲原喜行;阪中隆;沟上敏
分类号	C23C8/10	主分类号	C23C8/10
代理机构		代理人	洪澄文台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项	1.一种钝态膜之形成方法,其特征为:将表面粗度为Rmax1.0m以下之不锈钢构件,在露点温度为-95℃以下,且不纯物浓度为10ppb以下,而含有5 ppm-25容积%之氧气的氧气气体与钝气之混合气体环境中,于300-420℃
地址	日本