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发明名称 METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICES THAT PREVENTS PATTERN CONTAMINATION
摘要
申请公布号 US5132252(A) 申请公布日期 1992.07.21
申请号 US19890343456 申请日期 1989.04.25
申请人 FUJITSU LIMITED;KYUSHU FUJITSU ELECTRONICS LIMITED 发明人 SHIRAIWA, HIDEHIKO;SHIRAI, HISATSUGU;TAKAHASHI, NOBUHIRO;NOMURA, SHINICHI
分类号 H01L21/68;H01L21/027;H01L21/30;H01L23/544 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人
主权项
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